近日，集成电路核心零部件及耗材制造基地项目进行环评公示，公示信息显示项目预计2022年11月投产，预计达产年可生产刻蚀环80000片。

　　仪器信息网获悉，2月19日，由北京亦盛精密半导体有限公司建设的集成电路核心零部件及耗材制造基地项目进行环评公示，资料显示项目位于北京经济技术开发区，预计投产时间为2022年11月。

　　项目所在地（图源 集成电路核心零部件及耗材制造基地项目环境影响报告表）

　　据了解，北京亦盛精密半导体有限公司成立于2015年，注册资本10000万元，位于北京经济技术开发区，是一家高新技术企业，主营业务为硅环、硅电极加工、销售。公司目前具备加工制造刻蚀机使用的单晶硅环、多晶硅环、硅电极等零件的能力，已具备硅环加工、硅电极加工、硅材料清洗及镜面抛光的核心技术工艺。产品主要应用于14nm及以上Logic芯片（可应用于服务器、电脑、手机产品和新兴 AI 及 5G 等行业）和3D NAND、NorFlash存储芯片工艺干法刻蚀制程当中，主要产品单晶硅上电极是蚀刻腔体的重要组成部分，也是晶圆刻蚀工艺中使用的关键气体分配部件，其制造质量和精度直接影响芯片的质量和成品率。

　　的需求。依托中芯国际创新中心，建立与中芯国际等国内一流的Fab厂紧密合作，开展核心零部件研发。打造具有国际竞争力的半导体装备零部件产业，实现零部件与装备、Fab 零距离接触的合作模式，建立完整的供应链体系，形成最紧密的协同智能制造新模式，提升全产业链的整体竞争能力。该项目基于企业承担国家02专项已有的核心技术成果，针对集成电路装备零部件国产化需求，新建自动化精密清洗线、高洁净度循环清洗线以及检验中心和仓储中心，并搭建 智能信息化管理平台，建成国内一流的半导体装备零部件全工艺智能制造生产基地。本项目建成后，将实现硅、碳化硅和石英等核心零部件规模化制造，预计达产年可生产刻蚀环80000片（包括：硅环、石英环、SiC 环等），电极4000片（包括：硅电极、石 英电极、SiC 电极等），达产年可实现新增销售收入4.5亿元。

　　同时，项目建成的高洁净度循环清洗线 件 PVD/CVD 设备器件的清洗。 项目总投资 30000 万元，占地面积 14671.1m

　　（第二轮通知）第五届全国环境分析化学研讨会暨第十一届固相微萃取技术（中国）研讨会