6月30日晚间，荷兰光刻机巨头ASML在向观察者网提供的一份声明中称，荷兰政府于今日颁布了有关半导体设备出口管制的新条例。正如其在今年三月发布的消息中所述，这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

　　ASML表示，根据新出口管制条例规定，该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。

　　ASML在声明中重点指出，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统（DUV，深紫外光刻）。而该公司的EUV光刻（极紫外光刻）系统在此前已经受到限制，其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。

　　“ASML将继续遵守适用的出口管制条例，其中包括荷兰、欧盟及美国的出口管制条例。”

　　这家光刻机巨头称，荷兰政府新颁布的出口管制条例将于2023年9月1日生效，在此日期前，ASML可开始提交出口许可证申请，荷兰政府将视具体情况批准或拒绝这些申请。

　　当地时间周五（6月30日），荷兰政府正式宣布限制某些先进半导体设备出口的新规，这些规定将于9月1日生效。具体而言，荷兰政府将要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证。尽管荷兰政府并未直接点名会受到限制的公司，但外界都明白这是在针对当地最出名的半导体设备公司ASML。

　　荷兰方面这一动作其实早有迹象。今年3月，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔（Liesje Schreinemacher）就曾向荷兰议员宣称，“鉴于技术发展和地缘政治背景，政府得出结论，为了（国际）国家安全，有必要扩大对特定半导体制造设备的现有出口管制。”

　　彼时ASML就曾发布声明称，新出口管制并不适用于所有的浸润式光刻系统，而只适用于所谓“最先进的”，并且这些管控措施转化为立法并生效还需要时间。ASML所谓“最先进的”DUV，是指TWINSCAN NXT:2000i和后续推出的浸润式系统。

　　观察者网查询方正证券2020年6月发布的研报发现，TWINSCAN NXT:2000i DUV（双工作台深紫外光刻机）曾是ASML最先进的浸没式光刻系统，也是EUV光刻机之前的重要过渡产品，同时是后期7nm/5nm产能的重要补充。这种机型在2018年就已开始出货，被视为可用于生产7nm等制程（多次曝光）。

　　ASML官网显示，TWINSCAN NXT:2000i专为与EUV混合使用而设计，可为高级逻辑和DRAM节点的大批量制造提供出色的覆盖、聚焦控制和交叉匹配。比这款光刻机更先进的型号是TWINSCAN NXT:2050i，该系统满足多种图案化要求，为在高级逻辑和DRAM节点制造300毫米晶圆提供经济高效的解决方案。

　　在先后两次声明中，这家荷兰光刻机巨头提到，主要关注成熟制程的客户，可以使用不太先进的浸润式光刻工具，“我们认为这些管制条例不会对已发布的2023年财务展望以及于2022年11月投资者日宣布的长期展望产生重大影响”。

　　但不能自由出货，ASML在华收入将不可避免受到干扰。该公司预计2023年中国大陆销售额将保持在22亿欧元左右（约合人民币162亿元），而全球总销售额将增长25%，因为主要客户台积电和英特尔都在扩产。

　　根据ASML财报，2022年该公司共出货345台光刻系统，其中有81台浸润式DUV光刻机（ArFi），占比为23%。所有产品中，42%销往中国台湾，29%销往韩国，14%销往中国大陆，销往美国的只有7%。

　　在荷兰政府宣布新的半导体出口管制条例后，中国驻荷兰大使馆6月30日很快做出回应：荷兰政府正式出台半导体制造设备的出口管制措施，这是对出口管制措施的滥用，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离，中方对此坚决反对。

　　“我们呼吁荷方从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，立即纠正错误做法。中方将坚决维护自身合法权益。同时，也愿与荷方一道，本着互利互惠的原则，共同探讨解决方案，共同推动中荷经贸关系健康发展。”中国驻荷兰大使馆发言人表示。

　　ASML方面也早就对出口管制做出过警示。今年2月，在接受欧洲媒体采访时，ASML首席执行官温彼得直言，如果美国及其盟友切断中国（大陆）获得某些半导体和半导体制造技术的渠道，中国将被迫加倍努力开发自主技术。他坦言，虽然出口管制是合法工具，但不应该被滥用，决策者在“摆弄”半导体供应链之前应充分了解它的复杂性。